三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法。SiHCl3+H2=(一定条件)=Si+3HCl。 SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和H2，化学反应方程式为3SiHCl3+3H2O==H2SiO3+H2↑+3HCl；在这个高温过程中若混入O2，H2有可能和O2发生爆炸。
